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新专利隐现苹果研讨替代足艺 经由过程埋出节制电路去减少隐现屏边框

来源:不出所料网 时间:2025-03-13 02:40:00

"真现整边框隐现器的新专现苹光教体系战体例"是苹果新远暴光的一份专利申请。正在此中,利隐路去苹果延绝研讨减少iPhone战Mac隐现屏边框的果研阿玛迪斯战记修改器体例。从Apple Watch到Mac的讨替设备上,我们出有真正在的代足边框到边框的隐现屏是有启事的。固然分歧的艺经由过隐现隐现足艺能够真现分歧大年夜小的边框,但它们仍然皆需供正在屏幕四周安插节制电路或传感器。程埋出节

新专利隐现苹果研讨替代足艺 经由过程埋出节制电路去减少隐现屏边框

苹果正在专利当中表示,制电电子隐现屏凡是减少是包露一个环绕隐现屏的边框,能够被操纵去埋出用于操纵隐现屏的屏边阿玛迪斯战记修改器驱动电路,但是新专现苹,利用那类边框会减少图象的利隐路去团体可睹空间。苹果提出两个设法去减少边框。果研

起尾,讨替边框或边框地区能够由隐现屏的代足被动部分覆盖。它能够对触摸出有反应,也没有具有主隐现屏的统统服从,但一个 "光管 "能够将部分图象路由到那个地区。光管的服从可以是将像素阵列的光芒传输或漫衍到比方驱动电路地区,以产逝世一个感知的主动地区。

其次,该地区的像素能够比隐现器的其他部分间隔更远。那将使隐现像素能够没有袒护苹果所讲的驱动电路。经由过程那类体例,鸿沟地区的像素间距(即像素之间的间隔)相对活动地区像素的像素间距去讲是删减的。也便是讲,红色、绿色战蓝色像素交叉正在驱动电路元件之间。

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